Ultrasound devices configured to perform high-intensity focused ultrasound (HIFU) are described. An ultrasound device may include HIFU units configured to emit high acoustic intensities. Multiple ultrasound devices may be disposed on a substrate, which may be configured to be flexed so that the direction of emission of the ultrasound devices can be mechanically controlled. Additionally, or alternatively, the ultrasound beams produced by different ultrasound devices may be electronically oriented by adjusting the phases of the signals with which each element of a device is driven. For example, multiple phased arrays of ultrasound devices may be used to concentrate ultrasound energy into a desired location. In some embodiments, the time at which different ultrasound signals are emitted may be controlled, for example to ensure that the combined signal has at least a desired intensity.L'invention concerne des dispositifs à ultrasons conçus pour créer des ultrasons focalisés de haute intensité (HIFU). Un dispositif à ultrasons peut comprendre des unités HIFU conçues pour émettre des intensités acoustiques élevées. De multiples dispositifs à ultrasons peuvent être disposés sur un substrat, qui peut être conçu pour être fléchi de telle sorte que la direction d'émission des dispositifs à ultrasons puisse être commandée mécaniquement. De plus ou en variante, les faisceaux ultrasonores produits par différents dispositifs à ultrasons peuvent être orientés électroniquement par réglage des phases des signaux avec lesquels chaque élément d'un dispositif est entraîné. Par exemple, de multiples réseaux à commande de phase de dispositifs à ultrasons peuvent être utilisés pour concentrer l'énergie ultrasonore dans un emplacement souhaité. Dans certains modes de réalisation, le temps auquel différents signaux ultrasonores sont émis peut être commandé, par exemple pour garantir que le signal combiné a au moins une intensité souhaitée.
