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속용성을 갖는 키토산을 포함하는 피부 리프팅용 화장조성물
专利权人:
SON; Mi Kyung
发明人:
SON, Mi Kyung,손미경,PARK, Soon Young,박순영
申请号:
KRKR2015/004872
公开号:
WO2015/174772A9
申请日:
2015.05.14
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
The present invention relates to a cosmetic composition which: does not contain a preservative, a surfactant and the like capable of burdening or having an adverse effect on the skin since the cosmetic composition contains chitosan having a fast dissolving property in an undissolved state and is used by allowing chitosan to be dissolved by a user just before use and is suitable for skin lifting, the cosmetic composition comprising: 0.5-6.0 wt% of chitosan, having a fast dissolving property, dissolved with a dissolution velocity, in the range of 1-15 minutes, in a solvent having a degree of deacetylation (DA) in the range of 80-100% and a pH in the range of 3.5-7.5 and the remainder being a solvent having a pH in the range of 3.5-7.5, wherein the chitosan is physically separated from the solvent and contained in an undissolved state.La présente invention concerne une composition cosmétique qui ne contient pas de conservateur, ni de tensioactif ni dautres composés similaires susceptibles dalourdir ou de nuire à la peau, la composition cosmétique contenant du chitosane ayant une propriété de dissolution rapide à létat non dissous et étant utilisée en permettant la dissolution du chitosane par un utilisateur juste avant lutilisation et convient au lifting de la peau, la composition cosmétique comprenant : de 0,5 à 6,0 % en poids de chitosane, doté dune propriété de dissolution rapide, dissous avec une vitesse de dissolution dans la plage de 1 à 15 minutes dans un solvant ayant un degré de désacétylation (DA) dans la plage de 80 à 100 % et un pH dans la plage de 3,5 à 7,5 et le complément étant constitué dun solvant ayant un pH dans la plage de 3,5 à 7,5, le chitosane étant physiquement séparé du solvant et contenu à létat non dissous.본 발명은 속용성을 갖는 키토산을 미용해 상태로 포함하며, 사용 직전에 사용자에 의해 용해시켜 사용토록 함으로써 피부에 부담 내지는 악영향을 줄 수 있는 방부제와 계면활성제 등을 포함하지 않으며, 피부 리프팅용으로 적절한 화장조성물에 관한 것으로서, 80 내지 100%의 범위 이내의 탈아세틸화도(DA: Degree of Deacetylation) 및 3.5 내지 7.5의 범위 이내의 pH를 갖는 용매에서 1 내지 15분의 범위
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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