Provided are a method for preparing a low-refraction and high-viscosity friction type silicon dioxide and the silicon dioxide obtained thereby. The method comprises the following steps: S1, injecting water glass A with a modulus of 2.0-2.3 into a reaction tank, heating, stirring, dropwise adding sulfuric acid A, stopping adding the acid when the pH value is 10-11, so as to obtain a thickened silica sol； S2, injecting a sodium sulfate solution, and meanwhile, adding carboxymethyl cellulose, and heating； S3, dropwise adding water glass B with a modulus of 2.0-2.3 and sulfuric acid B at the same time, controlling the pH value to be 10.5-11.5, and after completion of dropwise adding water glass B, continously dropwise adding the acid until the pH value is 4.0-5.0, stopping adding the acid, stirring and aging； S4, press-filtering, washing, drying, crushing silicon dioxide to produce a product. The method is simple, easy to operate and stable, the prepared silicon dioxide has multiple characteristics such as low refractive index, high transparency, clean friction and thickening, and can be applied to transparent toothpaste without needing to compound the thickening silicon dioxide, thereby simplifying the toothpaste production process and reducing the production cost.L'invention concerne un procédé de préparation d'un dioxyde de silicium de type frottement à indice de réfraction faible et à viscosité élevée et le dioxyde de silicium ainsi obtenu. Le procédé comprend les étapes suivantes : S1, injecter du verre soluble A avec un module de 2,0 à 2,3 dans un réservoir de réaction, chauffer, agiter, ajouter goutte à goutte de l'acide sulfurique A, cesser l'ajout de l'acide lorsque la valeur due pH est de 10-11, de manière à obtenir un sol de silice épaissi ； S2, injecter une solution de sulfate de sodium, et en même temps, ajouter du carboxyméthylcellulose, et chauffer ； S3, ajouter goutte à goutte en même temps du verre soluble B avec un module de 2,0 à 2,3 et de l'acide sul
