LEE, HYUN YOUNG,이현영,KIM, YOUNG MIN,김영민,CHOI, JEONG HAE,최정해,CHOI, BYULBORA,최별보라,LEE, HYUN YOUNGKR,KIM, YOUNG MINKR,CHOI, JEONG HAEKR,CHOI, BYULBORAKR
申请号：
KR1020170005311
公开号：
KR1020180015054A
申请日:
2017.01.12
申请国别(地区):
KR
年份:
2018
代理人:
摘要：
The present invention relates to an implant processing apparatus to improve usability of the implant processing apparatus. An implant processing apparatus according to an embodiment of the present invention comprises: a chamber unit providing a processing space to process implants； a support unit arranged to be detachable from the inside of the chamber unit and supporting the implants； a plasma generation unit generating plasma and supplying the same to the chamber unit； and an exhaust unit exhausting gas from the chamber unit.본 발명은 임플란트 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치는, 임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부； 상기 챔버부의 내부에 탈부착 가능하게 배치되어 상기 임플란트를 지지하는 지지부； 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부； 및 상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부를 포함할 수 있다.
