用于纯化双特异性抗体的抗体修饰方法
- 专利权人:
- 中外制药株式会社
- 发明人:
- 井川智之,角田浩行
- 申请号：
- CN201510498322.8
- 公开号：
- CN105177091A
- 申请日:
- 2007.03.30
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 权陆军`刘力
- 摘要：
- 本发明涉及用于纯化双特异性抗体的抗体修饰方法。本发明发现了高效纯化双特异性抗体的方法：对于构成双特异性抗体的2种抗体，通过修饰存在于抗体可变区表面的氨基酸，在2种抗体的H链之间导入等电点差异，利用等电点差异，用色谱柱高效纯化双特异性抗体。还发现：向等电点有差异的抗体的恒定区整合各抗原结合部位(重链可变区)，使它们共表达，用色谱柱高效纯化双特异性抗体。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
