一种用于土壤修复的二硫化钼光催化降解板及制备方法
- 专利权人:
- 成都新柯力化工科技有限公司
- 发明人:
- 陈庆,曾军堂
- 申请号：
- CN201711468596.8
- 公开号：
- CN108114973A
- 申请日:
- 2017.12.29
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及土壤修复领域，公开了一种用于土壤修复的二硫化钼光催化降解板及制备方法。包括如下制备过程：（1）将七钼酸铵与硫粉加入去离子水中，研磨后加入次亚磷酸钠，制得浆体，原料组份为：七钼酸铵32~40%、硫粉15~18%、去离子水38~51%、次亚磷酸钠2~4%；（2）将浆体涂覆于基板上，加热进行水热反应，辐照干燥后得到二硫化钼薄膜；（3）对二硫化钼薄膜进行激光焊接，牢固结合。本发明制得的光催化降解板相比普通光催化剂，与土壤的接触面积大，光能吸收率高，光催化效能和土壤修复效果好，同时耐久性好，制备简单，使用方便，成本较低，对环境无污染，具有广阔的应用推广前景。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
