一种用于减少疤痕形成的医药组合物和方法

• 收藏
• 分享

专利权人:

戴念梓

发明人:

王怡文,戴念梓

申请号：

CN201480077108.9

公开号：

CN106456659A

申请日:

2014.03.11

申请国别(地区):

CN

年份:

2017

代理人:

摘要：

本发明涉及内容是有关于一种医药组合物，其用于一个有需要的个体以减少疤痕的形成。该医药组合物包含三种核酸及其药学上可接受的载体。本发明还涉及一种降低在一个有需要的个体减少疤痕的形成的方法。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/