抗体恒定区修饰体
- 专利权人:
- 中外制药株式会社
- 发明人:
- 井川智之,白岩宙丈
- 申请号：
- CN200880118581.1
- 公开号：
- CN101874041B
- 申请日:
- 2008.09.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明成功地改善了抗体恒定区在酸性条件下的稳定性、来自铰链区二硫键的异质性、来自H链C末端的异质性、在高浓度制剂中的稳定性。进一步成功地发现了在将新的T细胞表位肽的出现降至最小限度的同时降低与Fcγ受体结合的新的恒定区序列。由此，成功地发现了使物性(稳定性和均一性)、免疫原性、安全性以及药物动力学得到改善的抗体恒定区。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
