According to the present invention, there is provided a piping system comprising: a first piping section for supplying an acidic liquid A first chamber accommodating an acidic liquid supplied from the first piping portion and having a first gas discharge portion disposed on an upper side thereof A second piping part for supplying an alkaline solution A second chamber receiving the alkali solution supplied from the second piping portion and having a second gas discharge portion disposed on the upper side thereof A contaminated gas supply unit for supplying a contaminated gas into the acidic liquid of the first chamber or the alkaline solution of the second chamber A wastewater treatment unit for treating wastewater discharged from the first chamber or the second chamber to supply the treated liquid to the first gas discharge unit or the second gas discharge unit And a gas feeder communicating with the first chamber and the second chamber to supply the gas discharged from one chamber into the liquid of the other chamber.본 발명은, 산성액을 공급하는 제1 배관부 상기 제1 배관부로부터 공급되는 산성액을 수용하며, 상측에 제1 가스 배출부가 배치되는 제1 챔버 알칼리액을 공급하는 제2 배관부 상기 제2 배관부로부터 공급되는 알칼리액을 수용하며, 상측에 제2 가스 배출부가 배치되는 제2 챔버 상기 제1 챔버의 산성액 또는 제2 챔버의 알칼리액 안으로 오염 가스를 공급하는 오염 가스 공급부 상기 제1 챔버 또는 제2 챔버에서 배출되는 폐수를 처리하여 상기 제1 가스 배출부 또는 제2 가스 배출부로 처리된 액체를 공급하는 폐수 처리부 및 상기 제1 챔버와 제2 챔버에 연통되어, 하나의 챔버로부터 배출되는 가스를 다른 하나의 챔버의 액체 안으로 공급하는 가스 이송부를 포함하는 악취제거장치를 제공한다.
