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ネイルポリッシュリムーバー
专利权人:
KURARAY CO LTD
发明人:
TAKEDA AKINOBU,竹田 明展,INOUE SAORI,井上 沙織,OKUMA SHOTA,大熊 祥太,TAMURA KOJI,田村 耕司,EDNA MARGARITA GUERRERO CIFUENTES,エドナ マルガリータ ゲレロ シフェンテス
申请号:
JP2017239483
公开号:
JP2018083818A
申请日:
2017.12.14
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nail polish remover which hardly defats nails or the skin around nails, has less odor and has excellent removal ability of a nail polish.SOLUTION: There is provided a nail polish remover which contains a glycol ether and a carbonate-based solvent as main components. The glycol ether preferably is a monoalcohol, more preferably a monoalcohol having only one ether bond and further more preferably 3-methoxy-3-methylbutanol. Further, the carbonate-based solvent preferably is propylene carbonate. The nail polish remover preferably contains 50 mass% or more of a glycol ether and a carbonate-based solvent in total.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】爪や爪の周りの皮膚を脱脂しにくく、臭気が少なく、ネイルポリッシュの除去力にも優れるネイルポリッシュリムーバーを提供すること。【解決手段】グリコールエーテルおよびカーボネート系溶剤を主成分とするネイルポリッシュリムーバー。グリコールエーテルはモノアルコールであることが好ましく、エーテル結合を1つのみ有するモノアルコールであることがより好ましく、3-メトキシ-3-メチルブタノールであることがさらに好ましい。また、カーボネート系溶剤はプロピレンカーボネートであることが好ましい。当該ネイルポリッシュリムーバーは、グリコールエーテルおよびカーボネート系溶剤を合計で50質量%以上含むことが好ましい。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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