KO, WON JIN,고원진,JEONG, WON WOOK,정원욱,LEE, EUI JUNG,이의정,JIN, MU HYUN,진무현
申请号：
KR1020110049919
公开号：
KR1020120131620A
申请日:
2011.05.26
申请国别(地区):
KR
年份:
2012
代理人:
摘要：
PURPOSE: A cosmetic composition containing inert gas is provided to suppress microorganism breeding and to prevent oxidation of active ingredients.CONSTITUTION: A cosmetic composition contains inert gas such as helium, neon, argon, krypton, xenon, or radon. A method for manufacturing the cosmetic composition comprises: a step of dissolving cosmetic ingredients of an aqueous phase and an oil phase and emulsifying a step of cooling the emulsified cosmetic composition and a step of injecting inert gas and defoaming. The method further comprises a step of injecting inert gas during emulsification.COPYRIGHT KIPO 2013[Reference numerals] (S100) Step of dissolving cosmetic ingredients of an aqueous phase and an oil phase and emulsifying (S200) Step of cooling the emulsified cosmetic composition and defoaming (S300) Step of injecting inert gas of defoaming step본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물은, 화장료 조성물 내 공극의 95% 이상이 불활성 가스로 충전되어 있다. 이로 인해, 화장료 조성물 내에서 미생물의 번식을 억제하고, 유효성분들의 산화를 방지하여 안정화시키고, 변질을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 화장료 조성물의 제조방법에서, 화장료 조성물을 냉각, 탈포시키고, 탈포단계에서 불활성 가스를 투입함으로써 화장료 조성물 내에 있는 산소 및 용존산소를 제거할 수 있다. 불활성 가스는 유화 단계에서도 투입될 수 있으며, 산소 및 용존산소를 제거함으로써 미생물의 번식을 억제하고, 유효성분들의 산화를 방지하여 화장료 조성물을 안정화시킬 수 있다.
