您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

СПОСОБ ЛЕЧЕНИЯ СИНДРОМА ДЕФИЦИТА ВНИМАНИЯ У ДЕТЕЙ
专利权人:
OBSHCHESTVO S OGRANICHENNOJ OTVETSTVENNOSTJU "KLINICHESKIJ SANATORIJ-PROFILAKTORIJ "RODNIK"
发明人:
SHUGAR OLGA PAVLOVNA,Шугар Ольга Павловна,PINCHUK DMITRIJ JUREVICH,Пинчук Дмитрий Юрьевич,BRONNIKOV VLADIMIR ANATOLEVICH,Бронников Владимир Анатольевич,CHICHERIN ALEKSEJ VLADIMIROVICH,Чичерин Алексей
申请号:
RU2013110602/14
公开号:
RU0002518233C1
申请日:
2013.03.11
申请国别(地区):
RU
年份:
2014
代理人:
摘要:
FIELD: medicine.SUBSTANCE: there are performed 25-40-minute sessions of transcranial micropolarisation of the brain every 2-3 days. The exposure has a current intensity of 0.06-0.12 mA. An area of applied electrodes is 1.0-3.5 square centimetres. The exposure starts with 3-5 sessions covering the right hemisphere: for the first 2 sessions, the anode is arranged on the right within the frontal pole, and the cathode is placed within the right mastoid process. The third session is performed with the anode placed within a vertex, and the cathode - within the right mastoid process. For the fourth and fifth sessions, the anode is placed within the right frontal temple, and the cathode - within the right mastoid process. The sixth session is performed with the anode placed within the left frontal temple, and the cathode - within the left mastoid process. For the seventh and eighth sessions, the anode is placed within the left frontal temple, and the cathode - within the right frontal pole.EFFECT: method provides higher clinical effectiveness and reduced length of treatment that is ensured by the developed mode of exposure on the cerebral structures.3 exИзобретение относится к области медицины, а именно к неврологии. Проводят сеансы транскраниальной микрополяризации головного мозга длительностью 25-40 минут с интервалом в 2-3 дня. Воздействие осуществляют силой тока 0,06-0,12 мА. Площадь накладываемых электродов 1,0-3,5 квадратных сантиметра. При этом сначала проводят 3-5 сеансов воздействия на структуры правого полушария: первые 2 сеанса - при расположении анода справа в области лобного полюса и катода в области правого сосцевидного отростка. 3-й сеанс проводят при расположении анода в области вертекса и катода в области правого сосцевидного отростка. 4-й, 5-й сеансы проводят при расположении анода в области правого переднего виска и катода в области правого сосцевидного отростка. Затем при проведении 6-го сеанса анод располагают в области левого переднего виска, катод
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充