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一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法
- 专利权人:
- 甘肃省农业科学院旱地农业研究所
- 发明人:
- 马一凡,雷康宁,尹嘉德,王红丽,于显枫,方彦杰,张绪成,侯慧芝,张国平
- 申请号：
- CN202011165270.X
- 公开号：
- CN112136587A
- 申请日:
- 2020.10.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，涉及旱地马铃薯种植技术领域，用以解决目前旱作区马铃薯种植存在的种植地前期准备欠缺、限制马铃薯生长的现象，导致的马铃薯产量低下、品质较差的技术问题，本发明一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法包括种植地准备、种植地施肥、起垄、覆膜、种子准备、播种和收获。本发明在马铃薯种植过程中，在起好的大垄顶部表面开设10cm～15cm的小沟，不同于普通的全膜覆盖垄沟种植，10cm～15cm的小沟可以有效防止大垄顶部的雨水流失，增加雨水入渗率，同时在天气干旱的时候，减少大垄水分的蒸发流失，适于保持水分，且可以降低病害，促进马铃薯生产。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
