The present invention relates to a method of providing a shape to a tooth implant surface made of a ceramic material. The method of the present invention consists in etching at least a part of the surface of the tooth implant with an etching solution containing hydrofluoric acid at a temperature of 70 占 폚 or higher. The grain byproducts or agglomerates of the grains are removed from the ceramic material by the method described above.Tooth implants, ceramic materials, core roughness본 발명은 세라믹 재료로 제조된 치아 임플란트 표면에 형상을 제공하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 적어도 치아 임플란트의 표면 일부를 70 ℃ 이상의 온도에서 불화수소산을 포함하는 에칭 용액으로 에칭하는 것으로 이루어진다. 상기한 방법에 의해 세라믹 재료로부터 그레인 부산물 또는 그레인들의 응집물을 제거한다.
