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アルキル置換されたインドロキノキサリン化合物
专利权人:
オクシーファルマ エイビー
发明人:
バーグマン ジャン,エングキヴィスト ロバート,ガーディン ベングト,キヒルストロム インジェマー,ビョークルンド ウルフ
申请号:
JP2007516422
公开号:
JP5038891B2
申请日:
2005.05.18
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
< Conversion 27 > The new indorokinokisarin chemical compound formula (i) which is substituted (in formula, R1 is hydrogen, or or, the halogen basis, low-grade alkyl/alkoxy group, the hydroxy basis and the trifluoromethyl basis, the trichlororo methyl group, one or the plural resemblances in 7 rank - 10 rank which is selected from the torihuruorometokishi basis or the substituent which differs is displayed R2 resemblance or displays C1 - C4 alkyl substituents which differ X is CO or CH2 As for Y, OH and NH2, NH (CH2) n R3 (in formula, as for R3, low-grade alkyl, OH and NH2, NHR4 or NR5 R6 is displayed, in this case, R4, R5 and R6 becoming independent, is low-grade alkyl or shikuroarukiru, n is integer 2 - 4) However, when X CH2 being, Y is stated OH or NH (CH2) is n OH) and the salt which that pharmacology can be allowed. The chemical compound of this invention is useful prevention and/or the autoimmune disease as a medicine in order to deal with.【化27】式(I)の新規な置換されたインドロキノキサリン化合物(式中、R1は水素であるか、あるいは、ハロゲン基、低級アルキル/アルコキシ基、ヒドロキシ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメトキシ基から選択される7位~10位における1つまたは複数の類似または異なる置換基を表す;R2は類似または異なるC1~C4アルキル置換基を表す;XはCOまたはCH2である;Yは、OH、NH2、NH-(CH2)n-R3(式中、R3は、低級アルキル、OH、NH2、NHR4またはNR5R6を表し、この場合、R4、R5およびR6は独立して、低級アルキルまたはシクロアルキルであり、nは2~4の整数である)である;ただし、XがCH2であるとき、YはOHまたはNH-(CH2)n-OHである)およびその薬理学的に許容され得る塩が記載される。本発明の化合物は、自己免疫疾患を防止および/または処置するための薬物として有用である。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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