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在考虑待成像的解剖结构的条件下的MR饱和
- 专利权人:
- 西门子公司
- 发明人:
- J.福弗,R.施奈德
- 申请号：
- CN201610191003.7
- 公开号：
- CN106019188B
- 申请日:
- 2016.03.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及在考虑待成像的解剖结构的条件下的MR饱和,尤其描述一种用于确定用于控制磁共振成像系统来产生检查对象的待成像的区域的磁共振图像数据的控制序列的方法,其中采集磁共振原始数据。在该方法中确定关于检查对象的待成像的区域的解剖结构的信息。此外,在待成像的区域中依据所确定的解剖结构规定周围区域和中心区域。此外,确定一维的水/脂肪饱和脉冲序列,以用于使周围区域饱和,并且确定多维的水/脂肪饱和脉冲序列,以用于使中心区域饱和。本发明还描述一种用于控制磁共振成像系统来产生检查对象的磁共振图像数据的方法,其中采集磁共振原始数据。此外还描述一种HF饱和脉冲序列确定装置。此外还描述一种磁共振断层成像系统。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
