一种羧甲基赖氨酸荧光印迹材料及其制备方法和应用
- 专利权人:
- 北京工商大学
- 发明人:
- 刘慧琳,王静
- 申请号：
- CN201610283764.5
- 公开号：
- CN105842214A
- 申请日:
- 2016.04.29
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 郑俊彦
- 摘要：
- 本发明公开了一种羧甲基赖氨酸荧光印迹材料及其制备方法和应用，将薄层纳米材料石墨烯作为载体，一种光学性能优异的荧光纳米材料——量子点作为响应元件，高选择性、高特异性的分子印迹聚合物作为识别元件，建立一种高效、便携、快速、灵敏的分子印迹荧光传感体系，以羧甲基赖氨酸为模板分子，3‑氨丙基三乙氧基硅烷为功能单体，四乙氧基硅烷为交联剂，氨水为催化剂，通过反相微乳液合成法制备基于石墨烯和量子点的表面分子印迹材料，能够快速简便的从食品中检测出羧甲基赖氨酸残留。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
