吸收体制造装置
- 专利权人:
- 尤妮佳股份有限公司
- 发明人:
- 石川修
- 申请号：
- CN201120454124.9
- 公开号：
- CN202589779U
- 申请日:
- 2011.11.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型涉及一种吸收体制造装置(1)，具有：层积体形成装置(2)、输送装置(5)和压力装置(3)，所述层积体形成装置(2)用于将吸收体形成用材料层积，形成层积体(W)，所述输送装置(5)用于输送由所述层积体形成装置(2)形成的层积体(W)，所述压力装置(3)用于对由所述输送装置(5)输送的层积体(W)加压，以便形成吸收体。所述吸收体制造装置(1)的特征在于，在所述层积体形成装置(2)与所述压力装置(3)之间设置有喷洒装置(4)，所述喷洒装置(4)对由所述输送装置(5)输送的所述层积体(W)喷水。借此，本实用新型的吸收体制造装置(1)能够制造出防止使用时走形的效果良好的吸收体。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
