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粒子射线照射装置
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 坂本裕介,蒲越虎,原田久,本田泰三
- 申请号：
- CN201480077893.8
- 公开号：
- CN106163616B
- 申请日:
- 2014.10.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后,控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后,控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正,减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
