可抵抗背景和皮肤杂波的微波成像
- 专利权人:
- 沃伊亚影像有限公司
- 发明人:
- Y·龙尼茨,R·梅拉梅,S·摩西
- 申请号：
- CN201480021721.9
- 公开号：
- CN105120756A
- 申请日:
- 2014.03.13
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了一种微波成像传感器，其可抵抗背景和皮肤杂波。抵抗性通过在不对微波天线阵列或受试者进行机械移动下消除皮肤反射、通过利用来自其它天线的反射并补偿传播差异得到。消除考虑对于不同对在不同时间点的反射的预期强度，以使对图像，尤其对对称目标的图像重建的影响最小。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
