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高容量予熱域を含むＣＶＩ高密度化装置
- 专利权人:
- サフラン セラミクス
- 发明人:
- ベルナール デルペリエ,ジャン−フランソワ ポタン,ソフィ スリニャック
- 申请号：
- JP20160574498
- 公开号：
- JP2017512912(A)
- 申请日:
- 2015.03.05
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 熱化学処理装置１００は、反応室１４０と、少なくとも１つのガス入口１０４と、前記ガス入口１０４と前記反応室１４０との間で位置するガス予熱室１１０と、を備える。ガス予熱室１１０は、間隔を置いて重畳して保持された複数の穿孔分散トレー１１１〜１１４を有する。ガス予熱室１１０には、対向する少なくとも２つの穿孔分散トレーの間において、前記複数の穿孔分散トレー１１１〜１１４の間のガス流の流路を画定する複数の壁１１１０、１１２０、１１３０、１１４０も含まれ、前記壁のそれぞれが、前記対向する少なくとも２つの穿孔分散トレーの間で垂直に延びる。【選択図】図２
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
