リスペリドン含有経皮吸収型製剤及びこれを用いた貼付剤

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专利权人:

久光製薬株式会社

发明人:

栗林 満,鈴木 基浩,福島 秀尚,清水 英介

申请号：

JP2011501568

公开号：

JPWO2010098261A1

申请日:

2010.02.19

申请国别(地区):

JP

年份:

2012

代理人:

摘要：

The transdermal preparation according to the present invention, which contains as a drug acceptable salts thereof and a pharmaceutically or risperidone / 1 to 20 mass of the drug per 100 parts by mass of the total weight of the formulation The part containing, drug diffusion coefficient in the skin is 10 -6 cm / when 1.2 × 10 -6 ~10.0 × and skin permeation rate is 0.5~30μg / cm 2 / hr.本発明に係る経皮吸収型製剤は、リスペリドン及び/又はその薬学的に許容される塩を薬物として含有するものであり、当該製剤の全質量100質量部に対して上記薬物を1~20質量部含有し、皮膚透過速度が0.5~30μg/cm2/時であり且つ皮膚中の薬物拡散係数が1.2×10-6~10.0×10-6cm/時である。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/