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Bestrahlungsplanungverfahren und Bestrahlungsplanungsvorrichtung für die Partikeltherapie
专利权人:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
CHEN, WENJING,GEMMEL, ALEXANDER,RIETZEL, EIKE
申请号:
EP12189016.4
公开号:
EP2602004B1
申请日:
2012.10.18
申请国别(地区):
EP
年份:
2015
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erstellung eines Bestrahlungsplans für ein Zielvolumen, umfassend folgende Schritte:- Bereitstellen einer Modulationskurve, welche die Modulation von Partikelzahlen bei Zielpunkten, welche im Zielvolumen in Strahlrichtung hintereinander liegen, charakterisiert,- Ermitteln einer aktuellen Lage des Zielvolumens,- Bestimmen einer Vielzahl von aktuellen Zielpunkten, welche das Zielvolumen in seiner aktuellen Lage überdeckenden,- Zuordnen von Partikelzahlen zu den aktuellen Zielpunkten unter Verwendung der Modulationskurve.Weiterhin betrifft die Erfindung eine zur Durchführung des Verfahrens ausgebildete Bestrahlungsplanungsvorrichtung.the invention concerns a method for producing a bestrahlungsplans for a target size, complete the following steps:- provide a modulationskurve which the modulation of partikelzahlen at target sites in the target size in strahlrichtung in a row are characterized- identify a current position of the zielvolumens,determine a variety of current target sites, which is the target size in its current location \u00fcberdeckenden,- mapping partikelzahlen to the current target sites using the modulationskurve.the invention also concerns the implementation of the procedure bestrahlungsplanungsvorrichtung trained.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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