両親媒性化合物を含有するワニスの水洗方法
- 专利权人:
- 日立化成株式会社
- 发明人:
- 喜多田 祐子,会津 和郎,波江野 滋,中村 武史,齋藤 剛,多田 勲生,中崎 義知,佐藤 来
- 申请号：
- JP20160171909
- 公开号：
- JP2018035321(A)
- 申请日:
- 2016.09.02
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】両親媒性化合物を含有するワニスを水洗する方法であって、ワニスを短時間で収率高く水洗することができ、酸化合物の除去性に優れとともに、洗浄後のワニスのイオン性不純物濃度を十分に低減することができる水洗方法を提供すること。【解決手段】両親媒性化合物を含有するワニスを水の中に添加して攪拌する工程と、攪拌後の混合溶液を水層と油層とに分離して水層を除去する、又は、水層と乳化層と油層とに分離して水層及び乳化層を除去する工程と、を有する、両親媒性化合物を含有するワニスの水洗方法。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
