膜洗浄制御方法、膜洗浄制御装置、及び水処理システム
- 专利权人:
- 株式会社東芝;株式会社クボタ
- 发明人:
- 齋藤 美和,小原 卓巳,山中 理,川本 直樹,小峰 英明,堤 正彦,山本 浩嗣,木下 昌大,永江 信也,都築 佑子
- 申请号：
- JP20150136403
- 公开号：
- JP2017018859(A)
- 申请日:
- 2015.07.07
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】少ない薬液で効率的にろ過膜を洗浄することができる膜洗浄制御方法、膜洗浄制御装置、及び水処理システムを提供することである。【解決手段】実施形態の膜洗浄制御方法は、取得工程と、決定工程とを持つ。取得工程では、ろ過膜を薬液洗浄した直後のろ過膜の膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値を取得する。決定工程では、膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値に基づいて、次の薬液洗浄を行う際の洗浄強度を決定する。【選択図】なし
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
