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COSMETIC COMPOSITION FOR MOISTURIZING AND ANTI-IRRITATION OF SKIN CONTAINING POLYSACCHARIDE FROM NELUMBO NUCIFERA RHIZOME
专利权人:
C&TECH CORPORATION;DERMALAB
发明人:
KIM, YONG SOO,김용수,CHOI, SUNG KYU,최성규,PARK, HAN UK,박한욱,JO, YUN JEONG,조윤정,AHN, BAEK SUN,안백선
申请号:
KR1020130002899
公开号:
KR1012861400000B1
申请日:
2013.01.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
PURPOSE: A polysaccharide of lotus roots is provided to enhance skin moisturization, anti-inflammatory activity, to relieve skin irritation, to suppress erythema caused by UV ray, and to treat skin inflammation and irritation. CONSTITUTION: A cosmetic composition for relieving skin irritation contains 0.005-5 wt% of polysacchrides of lotus roots. The polysaccharides are applied by sub-microcapsulation, microcapsulation, or liposomization. The cosmetic composition further contains lactic acid, sodium lauryl sulfate, glycolic acid, salicylic acid, or retinol. A cosmetic composition for skin moisturization contains 0.005-5 wt% of the polysaccharides. [Reference numerals] (AA) Polysaccharides of lotus roots; (BB) Extract of lotus roots; (CC) UV irradiation본 발명은 연근 다당체를 함유하는 피부보습 및 피부자극완화용 화장료 조성물 및 유효성분으로서의 연근 다당체의 제조 방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면 연근 다당체를 조성물 전체 중량에 대하여 0.005 ~ 5 중량%로 함유하는 피부 보습 및 피부 자극완화용 화장료 조성물이 제공된다. 본 발명의 연근 다당체는 피부보습, 항염 활성을 갖고, 락트산, 소듐라우릴설페이트, 글리콜산, 살리실산 또는 레티놀 등과 같은 피부 자극성이 큰 화장료에 의한 피부 자극을 최소화 할 수 있어 이를 함유하는 화장료조성물은 우수한 피부 보호 효능을 가진다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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