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粒子束治疗系统
专利权人:
株式会社日立制作所
发明人:
高柳泰介,松田浩二,品川亮介,中岛千博,西村荒雄,白土博树,松浦妙子,清水伸一,鬼丸力也,梅垣菊男
申请号:
CN201380071654.7
公开号:
CN105050659B
申请日:
2013.10.10
申请国别(地区):
中国
年份:
2018
代理人:
范胜杰`文志
摘要:
本发明的粒子束治疗系统具备由能量吸收体、第一准直器以及第二准直器构成的向短射程区域的照射补偿装置。所述照射补偿装置的特征在于,具备所述能量吸收体、第一准直器以及第二准直器的装卸机构。第一准直器被配置在射束直径小的上流侧,由此能够抑制所述补偿装置的宽度,有助于所述补偿装置的小型和轻量化。第二准直器被配置在下游侧,有助于半阴影的改善。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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