The present invention provides an ophthalmological treatment device having an improved structure so that change in previously set irradiation position can be limited when an eyeball area is irradiated with a treatment beam, and a method for controlling the same. The ophthalmological treatment device according to the present invention includes: a beam generation unit that generates the treatment beam； a beam delivery unit that adjusts the irradiation position of the treatment beam provided from the beam generation unit to at least any one of a Z axis whose depth is changed along an optical axial line of the treatment beam and an XY plane which is horizontal with respect to the Z axis with respect to an eyeball treatment area； and a stopper unit that limits the change in irradiation position of the treatment beam with respect to the other one of the Z axis and the XY plane when the treatment beam is irradiated to the irradiation position of one of the Z axis and the XY plane with respect to the eyeball treatment area. According to the present invention, the stopper unit limits the change in irradiation position of the treatment beam while the eyeball treatment area is irradiated with the treatment beam. Accordingly, a treatment error and danger are prevented during eyeball treatment and product reliability can be improved.본 발명은 치료용 빔이 안구의 영역으로 조사될 때 기설정된 조사위치의 변경을 제한할 수 있도록 구조가 개선된 안과용 치료장치 및 이의 제어방법을 제공하는 것이다. 본 발명에 따른 안과용 치료장치는 치료용 빔을 생성하는 빔 생성유닛, 빔 생성유닛으로부터 제공된 치료용 빔을 안구의 치료 영역에 대해 치료용 빔의 광축선을 따라 깊이가 변경되는 Z축과 Z축에 대해 가로방향인 XY 평면상 중 적어도 어느 하나로 치료용 빔의 조사위치를 조절하는 빔 딜리버리유닛 및 치료용 빔이 안구의 치료 영역에 대해 Z축과 XY 평면상 중 어느 하나의 조사위치로 치료용 빔이 조사될 때 Z축과 XY 평면상 중 다른 하나에 대한 치료용 빔의 조사위치 변경을 제한하는 스토퍼유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 안구의 치료 영역으로 치료용 빔을 조사하는 동안, 스토퍼유닛에 의해 치료용 빔의 조사위치 변경이 제한되어 안구 치료 시의 치료 오류 및 위험성을 방지함에 따라 제품의 신뢰성을 향상시킬 수 있다.
