一种漆黄素及其盐在制备抗辐射损伤药物中的应用
- 专利权人:
- 中国医学科学院放射医学研究所
- 发明人:
- 李德冠,董辉,董银萍,王梅芳,张远洋,吴静
- 申请号：
- CN202010561607.2
- 公开号：
- CN111700888A
- 申请日:
- 2020.06.18
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种漆黄素及其盐在制备抗辐射损伤药物中的应用，涉及医药技术领域，具体公开了漆黄素能够应用于X射线、γ射线等电离辐射引起的多种放射性器官损伤以及DNA损伤，同时能够应用于肿瘤放射治疗辅助药物。本发明提供的漆黄素及其盐广泛存在于自然界中，且对多种抗辐射损伤具有显著的预防及治疗效果，因此，本发明为漆黄素的应用提供了新的思路，为抗辐射损伤药物提供了新的原料，且将漆黄素应用于抗辐射损伤药物能够降低药物生产成本，便于市场推广，缓解患者的经济压力。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
