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一种激光薄膜元件用光学基板清洗后表面检测方法
专利权人:
同济大学
发明人:
丁涛,宋智,程鑫彬,焦宏飞,张锦龙,马彬,沈正祥,王占山
申请号:
CN201210526581.3
公开号:
CN102980844B
申请日:
2012.12.10
申请国别(地区):
中国
年份:
2014
代理人:
张磊
摘要:
本发明涉及一种激光薄膜用光学基板清洗后表面检测方法,属于光学技术领域。所述检测流程工艺包括以下步骤:运用5µm、10µm尺寸的人造氧化硅小球定标白光表面检测灯的可见度,对基板清洗后的残留颗粒运用5µm~50µm尺寸的氧化硅小球进行尺度对比,统计残留颗粒的尺度和数量,实现用肉眼对基板表面微米尺度颗粒的半定量化检测;使用弱吸收仪扫描基板表面,统计基板表面上吸收高于20ppm小于100ppm,以及吸收值大于100ppm的点数,依此实现对基板表面纳米尺度金属氧化物粉粒的清洗去除效率的精确评价;运用原子力显微镜测量基板表面划痕的深度、表面粗糙度,并测量记录直径超过20nm的麻点个数,实现对基板表面疵病的量化评测。本发明的优点在于所述检测方法实现对光学基板清洗后表面的定量化检测,为基板清洗工艺的改进提供数据支撑,保证基板镀膜后达到激光损伤方面的要求。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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