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一种抗性处理提高齿瓣石斛试管苗移栽成活率的方法
专利权人:
重庆市中药研究院
发明人:
蒋渝,明兴加,钟国跃,秦松云,王昌华,孙年喜
申请号:
CN200910191212.1
公开号:
CN101695282A
申请日:
2009.10.26
申请国别(地区):
中国
年份:
2010
代理人:
侯懋琪
摘要:
本发明公开了一种抗性处理提高齿瓣石斛试管苗移栽成活率的方法,包括前期培育,抗性处理,后期培育,幼苗移栽四个步骤,其有益技术效果是:通过植株在极端温度条件下,降低植株的生长代谢速度,促进茎干的纤维化,增强强植株对环境的适应能力;使其在人工创造的逆境下尽快茎条膨大,叶片脱落,抗性增强,进而提高移栽成活率,为一种较为简单的抗性处理工艺,可操作性强,成本较低。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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