巴布剂及巴布剂的制造方法
- 专利权人:
- 尼普洛外用药品株式会社
- 发明人:
- 野口宪一
- 申请号：
- CN200880015992.8
- 公开号：
- CN101686950B
- 申请日:
- 2008.03.05
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供了一种可以抑制膏体层的挤出以及从使用对象处脱离这两种问题的巴布剂及其制造方法。巴布剂(10)包括支撑体(20)和位于该支撑体上部由膏体形成的膏体层(30)。膏体层(30)具有边缘部(31)和该边缘部(31)夹着的中央部(33)，所述边缘部(31)为从膏体层(30)的外周向内延伸5mm以内的部分。膏体层(30)整体的单位面积的膏体质量为0.10g/cm2以下，边缘部(31)处的单位面积的膏体质量为中央部(33)处的单位面积的膏体质量的70％以上。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
