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一种具有pH响应性及光敏性的抗菌材料及其制备方法
专利权人:
中国人民解放军第四军医大学
发明人:
刘仕杰,邵晨,王浩
申请号:
CN201510771827.7
公开号:
CN105381461B
申请日:
2015.11.12
申请国别(地区):
CN
年份:
2018
代理人:
摘要:
本发明公开了一种具有pH响应性及光敏性的抗菌材料及其制备方法,是将亲疏水性的光动力分子包载入纳米粒子聚合物Poly(HDDA‑co‑DBPA)‑PEG中。这样通过制备pH响应性高分子聚合物纳米粒子,将对其进行亲水性PEG修饰,并采用亲疏水性将光动力分子药物Chlorin e6包载入纳米粒子,将多种生物抗菌技术集成,提升了杀菌的生物学效应,有效提高药物在特殊环境的粘附,抑制细菌生物生长,能够有效抗菌、生物相容性好、造价低廉,材料稳定性好。本发明提出的制备方法得到的生物高分子抗菌材料,具有有效抗菌、生物相容性好、稳定性好、造价低廉的特点。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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