AVON PRODUCTS, INC.;ILAYA, Nancy T.; INC.;LYGA, John W.;PARIMOO, Satish;AVON PRODUCTS
发明人:
PARIMOO, Satish,ILAYA, Nancy T.,LYGA, John W.
申请号：
USUS2012/052040
公开号：
WO2013/066481A3
申请日:
2012.08.23
申请国别(地区):
US
年份:
2014
代理人:
摘要：
Cosmetic and dermatological compositions comprising N-heteroarylbisamide analogs and methods of using such compositions to impart anti-aging benefits to the skin and/or improve skin conditions resulting from reduced collagen and hyaluronic acid production are disclosed. The N-heteroarylbisamides are believed to stimulate collagen and hyaluronic acid production and restore or maintain homeostasis for these compounds.La présente invention concerne des compositions cosmétiques et dermatologiques comprenant des analogues de N-hétéroarylbisamide et des procédés d'utilisation de ces compositions pour conférer des bienfaits antivieillissement à la peau et/ou améliorer la condition de la peau résultant d'une production réduite de collagène et d'acide hyaluronique. Les N-hétéoarylbisamides stimuleraient la production de collagène et d'acide hyaluronique et permettraient la restauration ou le maintien de l'homéostasie pour ces composés.
