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平衡针对双能量X射线成像系统的X射线输出
专利权人:
皇家飞利浦有限公司
发明人:
R·K·O·贝林,S·霍尔茨阿普费尔
申请号:
CN202080052855.2
公开号:
CN114402411A
申请日:
2020.07.21
申请国别(地区):
CN
年份:
2022
代理人:
摘要:
提出了一种用于生成第一能谱和第二能谱的X射线辐射的X射线源(100),其中,与常规的X射线源相比,所述第一能谱与所述第二能谱之间的X射线强度不平衡被减小。与当施加较低的管电压时相比,通过在施加较高的管电压时配置较小的撞击到阳极(102)上的电子撞击角度(141)来实现对所述X射线强度不平衡的所述减小。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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