workspace (3) to a device for generating an alternating radio frequency field, the applicator that emits an electromagnetic field in the working area (3) and (2), AC voltage having a predetermined value and a predetermined frequency (V RF ) and alternating current (I RF ) oscillator to provide to the applicator (2) and (4), sufficient DC voltage (V CC and ) to the oscillator (4) power supply means (5) supplied to the oscillator (4) by an AC voltage provided to the applicator (2), AC current and / or the power supply for controlling the electrical parameters of the frequency I comprises a control means (6) associated with means (5). Control means (6) includes an input port connected to a power network (7) (7), is connected to the input port (7), the electrical parameters almost instantaneously varied, and the electromagnetic field radiated power momentarily to and includes a first electrical control circuit to control (8), an oscillator second electrical control circuit for adjusting the operation of (4) (10), a. First electrical control circuit (8) has an output which is connected to the power supply means (5) to (9). Plant, including a control method for the apparatus and the device.BACKGROUND 1作業領域(3)に交流無線周波数電磁場を発生する装置は、作業領域(3)における電磁場を放射するアプリケータ(2)と、所定の値及び所定の周波数を有する交流電圧(VRF)及び交流電流(IRF)をアプリケータ(2)へ提供する発振器(4)と、十分な直流電圧(VCC)を発振器(4)へ供給する電力供給手段(5)と、発振器(4)によりアプリケータ(2)へ提供されるAC電圧、AC電流及び/又は周波数の電気パラメータを制御する前記電力供給手段(5)に関連付けられる制御手段(6)と、を備える。制御手段(6)は、電力ネットワーク(7)に接続される入力ポート(7)と、入力ポート(7)に接続され、電気パラメータをほぼ瞬間的に変化させ、かつ電磁場放射電力を瞬間的に制御する第1の電気制御回路(8)と、発振器(4)の動作を調整する第2の電気制御回路(10)と、を含む。第1の電気制御回路(8)は、電力供給手段(5)に接続される出力(9)を有する。プラントは、前記装置及び前記装置のための制御方法を含む。【選択図】図1
