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Hydrogel composition for a mask base and method for manufacturing a hydrogel using same
专利权人:
Hyun Oh Yoo;Jong Chul Kim;Eun Kyoung Choi;Jae Min Lim;Jin A. Yang
发明人:
Hyun Oh Yoo,Jong Chul Kim,Jin A. Yang,Eun Kyoung Choi,Jae Min Lim
申请号:
US14349202
公开号:
US10011712B2
申请日:
2012.09.12
申请国别(地区):
US
年份:
2018
代理人:
摘要:
A hydrogel composition includes 0.1 to 10 wt % of a cross-linking agent, 0.2 to 6 wt % of a gelling polymer, 0.5 to 20 wt % of a polyhydric alcohol, and 70 to 90 wt % of purified water to maintain a form without a supporter, be stable without fluidization even when a hydrogel is immersed in cosmetics or pharmaceuticals, and allow the cosmetics or the pharmaceuticals to be uniformly delivered to skin.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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