一种X光机阳极足跟效应修正的方法
- 专利权人:
- 成都理工大学
- 发明人:
- 严永强,陆春海,韩露
- 申请号：
- CN202011094622.7
- 公开号：
- CN112205991A
- 申请日:
- 2020.10.14
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种X光机阳极足跟效应修正的方法。通过采用非线性拟合分段修正的方法设计的足跟效应过滤片HEF(Heel effect filter)，有针对性地调整阳极足跟效应导致的X射线强度空间分布差异，减小过滤片导致的光谱过度硬化所造成的影响，达到较大的X射线强度分布匀整范围，从而提高X光机的成像效果与其他性能参数，适应性广。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
