Verfahren zur Erzeugung von elektrolytisch korrodierbaren Ablösestellen in Okklusionsmitteln, Okklusionsmittel, Einführhilfe und Vorrichtung aus einer Einführhilfe und einem Okklusionsmittel
Verfahren zur Erzeugung von elektrolytisch korrodierbaren Ablösestellen (2) in Okklusionsmitteln (3) zur Implantation in Körperhohlräumen und Blutgefäßen und/oder in proximal zu den Okklusionsmitteln (3) angeordneten Einführhilfen (4),wobei die Ablösestellen (2) sowie zumindest Teile der Einführhilfe (4) und/oder der Okklusionsmittel (3) mit einem elektrisch isolierenden Material beschichtet werden und die Beschichtung bei der Laserbestrahlung an den Ablösestellen (2) entfernt wird und an der Einführhilfe (4) und/oder den Okklusionsmitteln (3) erhalten bleibt,die Ablösestellen (2) durch Laserbestrahlung vorkorrodiert werden, wobei die Entfernung der Beschichtung an den Ablösestellen (2) zeitgleich zur Vorkorrosion der Ablösestellen (2) erfolgt, die Wellenlänge der Laserbestrahlung < 300 nm beträgt, die Laserbestrahlung gepulst, die Pulsenergie < 1000 mJ/cm2ist und die Gesamtzahl der Pulse zwischen 100 und 400 liegt.A method for the generation of a noble electrolytically detaching (2) in occlusion with means (3) for implantation in body cavities and blood vessels and / or in the proximal to the occlusion means (3) with insertion guides (4 arranged),the detaching points (2) as well as at least parts of the insertion aid (4) and / or of the occlusion means (3) with an electrically insulating material to be coated and the coating in the case of laser irradiation at the detaching points (2) is removed and on the insertion aid (4) and / or the occlusion with means (3) is maintained,the detaching points (2) by laser irradiation are pre-corroded, wherein the removal of the coating to the detaching points (2) at the same time as the precorrosion of the detaching points (2), the wavelength of the laser irradiation < 300 nm is, of the laser irradiation in a pulsed manner, the pulse energy of less than 1000 mj / cm2 , and the total number of pulses is between 100 and 400 is.
