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貼付剤用支持体
专利权人:
KB SEIREN LTD
发明人:
ISHII HIROSHI,石井 宏
申请号:
JP2016190115
公开号:
JP2018053386A
申请日:
2016.09.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2018
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for a patch which maintains a predetermined thickness or more while having a low basis weight and has excellent followability to the skin and in which the omission of an agent is prevented.SOLUTION: The substrate for a patch is a weft knitted fabric having a basis weight of 100 g/m2 or less and a thickness of 0.55 mm or more, and has a 50% stretch stress in a lateral direction is 2.5-9.0 N/50 mm and a permeability of 200 cc/cm2/sec. or less. It preferably includes a polyester false twist-processed yarn having a total fineness of 30-80 dtex and a contraction recovery rate (CR) of 30-40%.SELECTED DRAWING: NoneCOPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】 低目付でありながら、一定以上の厚みを保持し、また、肌への追随性が良好で、剤抜けが防止された貼付剤用支持体を提供する。【解決手段】 目付100g/m2以下、厚み0.55mm以上の緯編物であって、ヨコ方向の50%伸張応力が2.5~9.0N/50mm、通気度が200cc/cm2/秒以下である貼付剤用支持体。総繊度が30~80dtex、伸縮復元率(CR)が30~40%であるポリエステル仮撚加工糸を用いてなることが好適である。【選択図】 なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
ishii hiroshi
石井 宏
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