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Method for growing one or more plants
专利权人:
Kamal Daas;HORTICOOP b.v.;Talal Daas
发明人:
Kamal Daas,Talal Daas,Peter, van der Drift
申请号:
DE102010050367
公开号:
DE102010050367A1
申请日:
2010.11.03
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Aufzucht einer oder mehrerer Pflanzen in einer Vorrichtung, die wenigstens eine erste Kammer und wenigstens eine zweite Kammer aufweist, die durch eine erste Trennwand voneinander getrennt sind, wobei die erste Trennwand eine oder mehrere Verbindungsöffnungen aufweist, die den Innenraum der ersten Kammer mit dem Innenraum der zweiten Kammer verbinden, wobei das Verfahren den Schritt umfaßt, dass die Pflanze und/oder die erste Trennwand derart versetzt wird, dass sich ein Bereich der Pflanze, der sich zunächst in der zweiten Kammer befunden hat, nach dem Versetzen der Pflanze und/oder der ersten Trennwand in der ersten Kammer befindet und/oder wobei das Verfahren den Schritt umfasst, dass die Pflanze derart relativ zu der Vorrichtung versetzt wird, dass sich ein Bereich der Pflanze, der sich zunächst nicht in der zweiten Kammer befunden hat, nach dem Versetzen der Pflanze relativ zu der Vorrichtung in der zweiten Kammer befindet.The present invention relates to a method of growing one or more plants in a device having at least a first chamber and at least one second chamber separated by a first partition wall, the first partition wall having one or more communication openings defining the interior space connecting the first chamber to the interior of the second chamber, the method comprising the step of displacing the plant and / or the first partition such that an area of the plant initially located in the second chamber is located after the first chamber Displacing the plant and / or the first partition wall in the first chamber and / or wherein the method comprises the step of displacing the plant relative to the device such that an area of the plant not initially located in the second chamber has been located after moving the plant relative to the device in the second chamber.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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