共焦点Ｘ線分析方法
- 专利权人:
- 株式会社日産アーク
- 发明人:
- 久保渕 啓,高尾 直樹,今井 英人,茂木 昌都
- 申请号：
- JP20150212750
- 公开号：
- JP2017083333(A)
- 申请日:
- 2015.10.29
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】従来の数十分の一の領域から生じた出射Ｘ線であっても、十分な統計学的精度を保持しながら検出することで、残留応力測定に加え、種々の放射光分析法への適用を可能とする共焦点X線分析方法を提供する。【解決手段】本発明の共焦点Ｘ線分析方法は、Ｘ線源からの放射光Ｘ線を試料に照射する照射工程と、上記試料から出射された出射Ｘ線を検出する検出工程とを有する。そして、上記照射工程が、上記放射光Ｘ線を集光光学系で集光し、試料の測定箇所に収束させるものであり、 上記検出工程が、上記測定箇所から出射された出射Ｘ線を集光光学系で集光し、検出するものであることを特徴とする。【選択図】図１
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