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一种含有氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物的光敏药物制剂及用途
- 专利权人:
- 中国医学科学院生物医学工程研究所
- 发明人:
- 刘天军,洪阁
- 申请号：
- CN201310000982.X
- 公开号：
- CN103143013B
- 申请日:
- 2013.01.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种含氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物的光敏药物制剂，每单位剂量含含氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物1-100mg，所述单位剂量为每日使用药物制剂的总量。含氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物可以与其他药物组合或单独使用，加入药学上可接受的药物载体，使所述氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物占该药物制剂总重量的0.5-40％，制备成临床上可接受的任何剂型。本发明还提供了该药物制剂在制备光敏抗肿瘤药物和近红外荧光成像领域中的应用。本发明一种含氨基多羧酸修饰四苯基卟啉化合物的光敏药物制剂，毒性低，应用方便，抑瘤谱广，肿瘤抑制率较高，用于光动力治疗恶性肿瘤效果好；于近红外区域有较高的荧光量子产率和光学稳定性，良好的生物相容性以及一定的穿透生物屏障的能力，在近红外荧光成像领域拥有广阔的应用前景。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
