A first elastic material is advanced in a machine direction in a stretched state to a first metering device at a speed, V1. A second elastic material is advanced in the machine direction in a stretched state to a second metering device at a speed, V2. First and second substrate layers are advanced in a machine direction to a third metering at a speed, V3, along with the first and second elastic materials. The first and second elastic materials are bonded to the first and second substrate layers at the third metering device to form a layered elastic substrate. The layered elastic substrate is advanced to a fourth metering device at a speed, V4. V1 is less than V2, V3 is greater than V1 and V2, V4 is less than V3, and V4 is greater than V1 and V2.Cette invention concerne un dispositif et un procédé de fabrication dun substrat élastique à plusieurs couches, un premier matériau élastique progressant dans le sens longitudinal à létat étiré jusquà un premier dispositif de mesure à une vitesse V1. Un deuxième matériau élastique progresse dans le sens longitudinal à létat étiré jusquà un deuxième dispositif de mesure à une vitesse V2. Une première et une deuxième couche de substrat progressent dans le sens longitudinal jusquà un troisième dispositif de mesure à une vitesse V3, en même temps que le premier et le deuxième matériau élastique. Ceux-ci sont alors collés à la première et à la deuxième couche de substrat au niveau du troisième dispositif de mesure et forment un substrat élastique à plusieurs couches. Le substrat élastique à plusieurs couches progresse jusquà un quatrième dispositif de mesure à une vitesse V4. La valeur de V1 est inférieure à V2, la valeur de V3 est supérieure à V1 et à V2, la valeur de V4 est inférieure à V3, et la valeur de V4 est supérieure à V1 et à V2.
