The present invention is a topical composition which contains structural units (a) derived from a monofunctional ethylenic unsaturated monomer (A), structural units (b) derived from a monofunctional ethylenic unsaturated monomer (B), and structural units (c) derived from a monofunctional ethylenic unsaturated monomer (C) as essential structural units, and contains a copolymer (D) free from structural units derived from ethylenic unsaturated monomers having a functionality of 2 or higher. The monomer (A) is free from phosphorus atoms and silicon atoms in the molecule. The monomer (B) has an HLB of 0.3-5.2. The molar ratio of the structural units (a) is 2-55 mol%, the molar ratio of the structural units (b) is 0.01-10 mol%, and the molar ratio of the structural units (c) is 43-97.99 mol%. The ratio (Mw/Mn) of the weight average molecular weight (Mw) to the number average molecular weight (Mn) of the copolymer (D) is 2.0-7.0. The copolymer (D) has a cation charge density of 1.2-1.6 meq/g.La présente invention concerne une composition topique qui contient, en tant que motifs structuraux essentiels, des motifs structuraux (a) dérivés d'un monomère éthylénique insaturé monofonctionnel (A), des motifs structuraux (b) dérivés d'un monomère éthylénique insaturé monofonctionnel (B), et des motifs structuraux (c) dérivés d'un monomère éthylénique insaturé monofonctionnel (C), et qui contient un copolymère (D) exempt de motifs structuraux dérivés de monomères éthyléniques insaturés ayant une fonctionnalité de 2 ou plus. Le monomère (A) est exempt d'atomes de phosphore et d'atomes de silicium dans la molécule. Le monomère (B) présente un HLB compris entre 0,3 et 5,2. Le rapport molaire des motifs structuraux (a) est compris entre 2 et 55 % en moles, le rapport molaire des motifs structuraux (b) est compris entre 0,01 et 10 % en moles, et le rapport molaire des motifs structuraux (c) est compris entre 43 et 97,99 % en moles. Le rapport (Mw/Mn) du poids moléculaire moyen en poids
