谷胱甘肽响应型双硫键双菁染料及其制备方法与用途
- 专利权人:
- 北京大学
- 发明人:
- 戴志飞,莫善雁
- 申请号：
- CN201910644430.X
- 公开号：
- CN110283474A
- 申请日:
- 2019.17.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种谷胱甘肽响应型双硫键双菁染料及其制备方法与用途。本发明制备的双硫键双菁染料含有对谷胱甘肽响应断裂的双硫键,在响应前,由于聚集作用双染料荧光淬灭,响应后荧光恢复。由于肿瘤细胞内的谷胱甘肽浓度比正常细胞高很多,因此该染料可对肿瘤部位实现较高分辨率的荧光成像,解决了现有菁染料肿瘤部位成像性分辨率差的问题。此外,本发明方法制备的双硫键双菁染料稳定性好、毒性低,可用于分子荧光成像以及肿瘤的光动力、声动力治疗。而且,该染料合成路线短、产率高、易于操作,适用于工业化生产。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
