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Plasma treatment arrangement and method for adapting the size of a support surface of the plasma treatment arrangement to the size of the surface to be treated
专利权人:
CINOGY GmbH
发明人:
Dirk Wandke,Ronny Lettke
申请号:
DE102019101063
公开号:
DE102019101063A1
申请日:
2019.01.16
申请国别(地区):
DE
年份:
2020
代理人:
摘要:
Bei einer Plasma-Behandlungsanordnung zur Durchführung einer dielektrisch behinderten Plasmaentladung auf einer zu behandelnden Oberfläche mit einer eine Behandlungsseite aufweisenden flächigen Elektrodeneinheit (4) und einer Steuereinheit (11), die wenigstens einer Elektrode (19) der Elektrodeneinheit (4) ein Hochspannungs-Wechselpotential für eine für die Plasmaerzeugung zwischen der wenigstens einen Elektrode (19) und einer ein Bezugspotential bildenden Gegenelektrode benötigte Leistung zuführt, wobei die wenigstens eine das Hochspannungs-Wechselpotential erhaltende Elektrode (19) wenigstens zur Behandlungsseite mit einem flächigen Dielektrikum (7) abgeschirmt ist und wobei die flächige Elektrodeneinheit dafür ausgebildet ist, die Größe ihrer Auflagefläche auf der zu behandelnden Oberfläche zur Anpassung an die Größe der zu behandelnden Oberfläche zu verkleinern, wird die Anpassung der Auflagefläche der flächigen Elektrodeneinheit (4) unproblematisch dadurch möglich, dass die Steuereinheit (11) eine Einrichtung (14) zur Bestimmung der Größe der angepassten Auflagefläche und eine Steuereinrichtung zur Einstellung der an die wenigstens eine Elektrode (19) abzugebende Leistung in Abhängigkeit von der festgestellten Größe der Auflagefläche aufweist.In a plasma treatment arrangement for carrying out a dielectric barrier plasma discharge on a surface to be treated with a flat electrode unit (4) having a treatment side and a control unit (11), the at least one electrode (19) of the electrode unit (4) has a high voltage alternating potential for supplies a power required for the plasma generation between the at least one electrode (19) and a counterelectrode forming a reference potential, the at least one electrode (19) receiving the high voltage alternating potential being shielded with a flat dielectric (7) at least on the treatment side, and wherein the Flat electrode unit is designed to reduce the size of its support surface on the surface to be treated to adapt to t
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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