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RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 수산화아파타이트 코팅막이 형성된 임플란트와 이의 제조방법
专利权人:
OT&T CO.; LTD.
发明人:
JEONG, WOON JOKR,정운조
申请号:
KR1020140059246
公开号:
KR1020150131863A
申请日:
2014.05.16
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to an implant and a production method thereof and, more specifically, to an implant having excellent properties of coating layer by coating hydroxyapatite having high bioactivity on a surface of a dental and orthopedic implant by means of radio frequency (RF) magnetron sputtering with high adhesiveness and effects of coating large area. The implant formed with a hydroxyapatite coating layer using RF magnetron sputtering is formed on a surface of the substrate by ceramic or metal substrate and RF magnetron sputtering, thereby forming the coating layer containing hydroxyapatite.COPYRIGHT KIPO 2016본 발명은 임플란트와 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 높은 부착력과 대면적 코팅효과를 갖는 RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 이용하여 생체활성이 높은 수산화아파타이트를 치과 및 정형외과용 임플란트 표면에 코팅하여 코팅막의 특성이 우수한 임플란트와 이의 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 RF 마그네트론 스퍼터링을 이용한 수산화아파타이트 코팅막이 형성된 임플란트는 세라믹 또는 금속 소재의 기재와, RF 마그네트론 스퍼터링(RF magnetron sputtering)에 의해 상기 기재의 표면에 형성되며, 수산화아파타이트를 함유하는 코팅막을 구비한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
jeong, woon jokr
정운조
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