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多孔植入体
专利权人:
斯恩蒂斯有限公司
发明人:
T·伊姆文克尔里德,L·吉热
申请号:
CN200580051267.2
公开号:
CN101237834B
申请日:
2005.08.10
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
一种具有成形体的植入体(1),其中A)所述成形体具有平均孔隙率为P2的第一区域(2)和平均孔隙率为P3的第二区域(3),其中P3<P2;和B)具有较低平均孔隙率P3的所述第二区域(3)被设计为用于处理或固定所述植入体(1)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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