低温等离子体表面处理装置

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专利权人:

韩国机械研究院

发明人:

李昇勋,金度根

申请号：

CN201920808862.5

公开号：

CN210110703U

申请日:

2019.30.05

申请国别(地区):

CN

年份:

2020

代理人:

摘要：

本实用新型涉及低温等离子体表面处理装置。更详细地,本实用新型涉及用于提高生物材料的生物相容性的低温等离子体表面处理装置。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/